硅含量对真空熔炼电阻靶材和电阻薄膜性能的影响

来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wanghongtao11

【摘要】

：

采用真空熔炼方法研制新型溅射用高阻靶材,并试验靶材含硅量对溅射电阻薄膜性能的影响。 A new type of high resistance sputtering target for sputtering was developed

【作者】

：

毛大立王家敏董千吴建生

【机构】

：

上海交通大学材料科学系,上海交通大学材料科学系,上海交通大学材料科学系,上海交通大学材料科学系 200030,200030,200030,200030

【出处】

：

电子工艺技术

【发表日期】

：

1993年05期

【关键词】

：

真空熔炼溅射用高阻靶材薄膜电阻 TCR

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采用真空熔炼方法研制新型溅射用高阻靶材,并试验靶材含硅量对溅射电阻薄膜性能的影响。 A new type of high resistance sputtering target for sputtering was developed by vacuum melting method and the effect of target silicon content on the properties of sputtering resistance film was tested.

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