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采用十六烷基氯化吡啶及乙酸镍对蒙脱土进行了一次、二次插层改性，对样品进行了红外光谱、X射线衍射分析和沉降实验。结果表明两种插层剂均已进入蒙脱土的层间，有机蒙脱土的层间距由1．04m增加到2．21m，改性蒙脱土在有机介质中表现出很好的分散性。该实验结果证明，利用二次插层扩大层间距和配位作用引入新物质是完全可行的，这一点为利用配位聚合制备复合材料提供了思路。