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采用射频磁控溅射法制备了CaWO4∶Yb3 薄膜并考察了沉积气压和时间对其结构、形貌和发光性能的影响。在不同的气压下, 薄膜的XRD结果与四方相白钨矿结构相吻合, 并且沿(004)方向择优生长。SEM图像显示, 薄膜表面由椭圆形颗粒和孔洞组成。在260 nm激发下, Yb3 在994 nm处发出强近红外光, 并且其强度随着溅射气压的升高总体是不规律的, 而随着溅射时间的增加先增强后减弱。由于优良的发光性能, CaWO4∶Yb3 薄膜可作为潜在增强硅太阳能电池性能的发光转化膜。