【摘 要】
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实验研究一种新颖的光刻胶牺牲层的接触平坦化(contact planarization)技术,应用于MEMS结构制作。实验研究了温度与光刻胶流动性的关系,以及牺牲层厚度、施加压力和温度、MEM
【机 构】
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中国科学院上海微系统于信息技术研究所传感技术国家重点实验室; Brewer Science Inc.Rolla; Mo.65401; USA; Samsung
【基金项目】
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由上海微系统与信息技术研究所与韩国三星综合技术院的课题“CMOS-CompatibleMEMSProcess(Post-CMOS)”资助
论文部分内容阅读
实验研究一种新颖的光刻胶牺牲层的接触平坦化(contact planarization)技术,应用于MEMS结构制作。实验研究了温度与光刻胶流动性的关系,以及牺牲层厚度、施加压力和温度、MEMS结构密度等因素对平坦化效果的影响,在优化条件下,牺牲层的起伏台阶从2μm减小到20~40nm。与化学机械抛光技术相比,接触平坦化无明显凹陷(D ishing)效应,无衬底损伤,同时呈现出良好的局部和总体均匀性。
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