【摘 要】
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采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术,通过改变ZrB2靶溅射功率来调节Zr-B-N涂层的成分和微结构,系统研究了ZrB2靶功率对涂层成分、微观结构和性能的影响.研究结果表明:
【机 构】
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天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室 天津300222国网辽宁省电力有限公司沈阳供电公司营业及电费室 沈阳 110003;
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采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术,通过改变ZrB2靶溅射功率来调节Zr-B-N涂层的成分和微结构,系统研究了ZrB2靶功率对涂层成分、微观结构和性能的影响.研究结果表明:随着ZrB2靶功率的增加,Zr-B-N涂层形成了以非晶a-BN包裹着纳米晶的纳米复合结构;涂层的硬度由36.76下降到16.1GPa;当ZrB2靶溅射功率为0.4和0.6kW时,表征膜/基结合强度的临界载荷分别达到最小值29.28和最大值43.85 N.摩擦系数和磨损率具有相同的变化趋势,均随ZrB2靶溅射功率的增加先增大后减小,当ZrB2靶溅射功率为0.8 kW时,Zr-B-N涂层摩擦系数较低,抗磨损能力亦最强.
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