沉积温度对高温超导带材YBiO3缓冲层外延生长的影响

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dzbycp2009
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采用脉冲激光沉积(PLD)方法,在LaAlO3(001)基片上研究了沉积温度对用作高温超导带材缓冲层YBiO3结晶的影响。结果表明,随着沉积温度的升高,YBiO3缓冲层结晶质量提高,取向趋于完美,表面较为平整。当沉积温度为700℃时,单晶外延的Y8i03与LaAlO3基片的外延关系为:YBiO3(001)//LaAlO3(001)和YBiO3[110]//LaAlO3[100],其晶格失配度为1.3%,平均粗糙度约为3.4nm。
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