【摘 要】
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JK-1型半自动接近、接触式φ50光刻机,经过半年时间(1000余小时)的工艺试验及鉴定小组的检测,表明该机主要性能指标全部达到原设计要求。其中光源均匀性,恒光强控制系统稳定
【机 构】
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中国科学院JK-1型半自动接近式光刻机鉴定委员会,
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JK-1型半自动接近、接触式φ50光刻机,经过半年时间(1000余小时)的工艺试验及鉴定小组的检测,表明该机主要性能指标全部达到原设计要求。其中光源均匀性,恒光强控制系统稳定性等指标还优于原设计要求。是国内技术上先进,某些方面具有独到之处,有实用
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