【摘 要】
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利用MEVVA离子注入技术对TC4合金进行了表面处理 ,测量了TC4合金经不同剂量的La+和Mo+注入后表面粗糙度的变化。结果表明 ,离子注入使表面粗糙度的高度特性参数值普遍下降 ,
【机 构】
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南京航空航天大学,南京航空航天大学,南京航空航天大学,南京航空航天大学
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利用MEVVA离子注入技术对TC4合金进行了表面处理 ,测量了TC4合金经不同剂量的La+和Mo+注入后表面粗糙度的变化。结果表明 ,离子注入使表面粗糙度的高度特性参数值普遍下降 ,随着注入剂量增加 ,各参数值下降更明显 ,Mo+注入效果要略优于La+的效果。表面形貌得到优化。分析了离子注入对表面粗糙度的影响规律 ,并利用溅射理论给出了物理解释
The surface of TC4 alloy was treated by MEVVA ion implantation technology, and the change of surface roughness of TC4 alloy after different doses of La + and Mo + were measured. The results show that the ion implantation has generally decreased the height characteristic parameters of the surface roughness. With the increase of the injected dose, the values of the parameters decrease more obviously, and the effect of Mo + injection is slightly better than that of La +. Surface morphology is optimized. The influence of ion implantation on the surface roughness was analyzed and the physical explanation was given by using the sputtering theory
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