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Si掺杂AlN的电子结构和光吸收
Si掺杂AlN的电子结构和光吸收
来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jsjyao
【摘 要】
:
基于密度泛函理论第一性原理的平面波超软赝势法,研究了Si掺杂纤锌矿AlN的电子结构和光吸收性质。结果表明:杂质能级位于导带底附近,与Al3p能级复合形成导带底,使系统发生Mott
【作 者】
:
程伟
侯芹英
苏希玉
支晓芬
司盼盼
【机 构】
:
曲阜师范大学物理工程学院
【出 处】
:
发光学报
【发表日期】
:
2009年6期
【关键词】
:
ALN
Si掺杂
电子结构
光吸收
AlN
Si doping
electronic structure
optical absorption
【基金项目】
:
基金项目:国家自然科学基金(10775088),山东省理论物理重点学科资助项目
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基于密度泛函理论第一性原理的平面波超软赝势法,研究了Si掺杂纤锌矿AlN的电子结构和光吸收性质。结果表明:杂质能级位于导带底附近,与Al3p能级复合形成导带底,使系统发生Mott相变;Si掺杂后在2.02eV附近出现新的吸收峰,从而改善系统在可见光区的吸收特性。
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