纳米孔氧化铝膜及电子俘获材料有序纳米阵列的制备及性能研究

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对纳米孔氧化铝膜的制备装置、制备工艺进行了实验研究,研制出了稳定性高、重复性好的实验装置,获得了纳米孔氧化铝膜的最佳制备工艺条件,制备出了高度有序的纳米孔氧化铝膜.采用XRD、XPS、FT-IR、AFM、TEM等测试手段对所制备的氧化铝膜的结构、成份、形貌进行了表征.结果表明,该文所制备的多孔氧化铝膜是非晶型的,主要组成成份是氧化铝,并含有少量的铝、酸根化合物及氧化铝的水合物.对所制备的ETM有序纳米阵列的荧光特性进行了较为详细的研究,并将其结果与ETM多晶粉末的光谱特性进行了比较.ETM有序纳米阵列的荧光激发谱发生了二个明显的变化:激发谱中增加了一个波长在350nm~400nm的激发带;波长范围在400nm~515nm宽可见光激发带的激发灵敏度得到了很大的增强.激发谱中的这些变化起因于激发光与氧化铝膜辐射光的叠加.ETM有序纳米阵列的的辐射光谱中最明显的变化是出现了10个宽的辐射带,其中心波长分别是:575nm、596nm、608nm、614nm、620nm、633nm、643nm、646nm、662nm、681nm.该文认为这些新的辐射带的出现起因在于ETM有纳米阵列的量子效应,即ETM被组装成有序纳米阵列后,ETM中激活剂离子的4f 65d的能级分裂成的若干个能级.其详细机制还有待进一步研究.
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