离子束溅射以其出色的工艺稳定性、制备的薄膜性能优越等优点，已成为制备高性能光学薄膜的重要手段。本课题在实验室自制的设备上对离子束溅射的工艺进行了系统研究，对在不同工艺条件下制备的Nb2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的特性包括光学特性、力学特性、薄膜微结构和表面形貌进行了深入研究，并系统地分析了离子源参数对材料特性的影响，以获得比较理想的制备条件。与采用离子辅助沉积和电子束蒸发制备的样品作了对比，结果显示离子束溅射制备的薄膜光学特性和微结构更加优越，并通过膜厚均匀性修正，使其成为一种出色的光学薄膜沉积方式。　　 对离子束溅射制备多层光学薄膜展开讨论。对离子束溅射沉积速率的特性进行了研究，验证了其速率稳定和重复性好的优点，为时间监控方式提供了实验基础。研究了利用时间监控和晶振监控的方法对多层光学薄膜进行制备。针对晶振监控方式，研究了在不同材料上的沉积特性差异，并提出了对高低折射率材料分别采用不同晶片进行膜厚监控的方法，并详述其制备方法。对飞秒激光器用于色散补偿的啁啾镜的制备展开讨论。首先提出了用时间监控结合晶振监控方法对啁啾镜进行制备，成功制备了600nm-1000nm带宽可提供平均值为-50fs2GDD补偿量的啁啾镜。用晶振监控方法制备了啁啾镜对，通过使用实验室自制的白光干涉系统测得结果，取得了较满意的实验效果。