随着印制电路板向大面积、高密度的方向发展,传统的用于印制电路曝光的方法如接触接近成像技术、步进重复成像技术、激光直接成像技术由于存在着底版容易污染、受热变形;分辨率较低;产量低下等缺陷,在制作大面积、高密度印制板时有一定的局限性,因此我们就采用于大面积、高精度的激光投影成像技术,而本文所要解决的是掩模--样片的对准技术,掩模--样片的对准技术是曝光机的三大核心技术(物镜、对准、工作台)之一。针对目前我们研究的激光投影光刻机对高分辨力和高衬度的需要,设计了一套基于视频图像对准原理的激光投影光刻对准系统。详细阐述了共焦显微镜的基本光路、成像原理、关键技术及在本系统中的应用。对准系统精度很大程度上取决于CCD图像传感器输出信号的精度和数字图像处理的软件算法,研究了影响CCD精度的各种因素,并分析相关双采样技术对CCD图像进行消噪处理,使信噪比S/N得以提高,并且运用数字图像处理软件使得图像的质量明显提高,从而提高了视频图像对准系统的精度,完全满足系统分辨精度2.5um。