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软磁铁氧体是电子信息和电子工业的基础性功能材料,广泛应用在通信、电源、计算机和各种电子产品等领域。随着信息技术和电子产品数字化的发展,对软磁铁氧体材料和元件提出了新的要求,如器件的小型化、片式化、高频化和低损耗等,为了正确认识和有效的利用Ni-Zn铁氧体材料,掺杂是提高铁氧体性能成为研究方向的一个有效手段。本文通过掺杂Nd~(3+)、Sm~(3+)和Y~(3+)稀土离子制备Ni-Zn铁氧体,并借助扫描电子显微镜(SEM),X射线衍射技术(XRD),Agilent 4294A阻抗测试