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MOCVD GaInP材料制备中新源TBP的物理化学及应用
MOCVD GaInP材料制备中新源TBP的物理化学及应用
来源 :中国科学院上海冶金研究所 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:savages8850
【摘 要】
:
该文研究了MOCVD GaInP材料制备中新源TBP的物理化学及应用,生长出了性能与用PH时接近的GaInP外延层.
【作 者】
:
毕戈雄
【机 构】
:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【出 处】
:
中国科学院上海冶金研究所 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【发表日期】
:
1995年期
【关键词】
:
MOCVD GaInP材料
制备
新源TBP
物理化学
应用
GaInP外延层
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该文研究了MOCVD GaInP材料制备中新源TBP的物理化学及应用,生长出了性能与用PH<,3>时接近的Ga<,0.51>In<,0.49>P外延层.
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