SiGe异质结薄膜特性的研究

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【摘要】

：

随着薄膜制备工艺的迅速发展,各种材料的薄膜化已成为一种普遍趋势。现今,薄膜材料在材料领域中占据着越来越重要的地位。Si_(1-x)Ge_x合金薄膜异质结材料是继Si和GaAs之后的一种重要的半导体材料。在微电子器件和电路应用方面, Si_(1-x)Ge_x合金薄膜材料不仅在频率和速度上可以超越Si,而且在制作成本上大大低于GaAs,具有较高的性价比,因此上,Si/Ge材料在光电子领域中有着巨大的应

【作者】

：

范俊义

【机构】

：

太原科技大学

【发表日期】

：

2011年07期

【关键词】

：

异质结磁控溅射 SEM Raman PL

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