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本文研究控制图针对可控过程违背独立同分布假设前提的检测性能问题,主要考虑过程存在自相关性以及异方差.为了解决过程存在自相关性问题,本文引入ARIMA模型.并结合(广义)ARCH模型,处理过程异方差问题.这类问题的研究,对控制图的使用者在有效地操作上具有现实意义.本文主要做了以下两方面的工作:第一:基于异方差过程的改良EWMA控制图.首先,讨论了过程异方差对常规EWMA控制图的影响.进一步,改良EWMA控制图,通过数值模拟方法比较改良前后EWMA控制图的检测效果.同时,研究了在股票市场运用中,改良前后