随着薄膜技术的发展和薄膜材料的应用，关于薄膜表面与界面结构中成分和性质变化的研究引起了广泛的关注。在表面和体内成分的研究中，表面偏析起了较大的作用。与体块材料相比，薄膜材料厚度有限，缺乏储存原子的能力，因此，当偏析原子到达材料的表面时，将会导致偏析原子在表面层的浓度远远大于在体内层的浓度。同时，由于原子间互扩散，薄膜和基质间的晶粒生长和/或适配等，实际的偏析效应会受到应力的影响，进而影响材料的相关性质。　　本学论文基于修正的Darken偏析速率方程和尺寸效应的约束条件，根据应力对偏析效应的实际影响，在偏析驱动力-化学势中引入应力项，推导得出应力作用下Darken平衡态和动态偏析方程，定量计算了应力对薄膜材料表面偏析的影响。并将修正的Darken偏析方程的应用从体块材料和薄膜材料拓宽至纳米颗粒。　　本学位论文首先介绍了薄膜材料的制备和表征技术（第一章）；接着对应力的测量方法、原理和使用范围进行了综述（第二章）；基于修正的Darken偏析速率方程，在偏析的驱动力-化学势中引入应力项，推导出应力作用下的Darken偏析速率方程（第三章）；利用第三章的推导，定量计算了应力对Ni-Cu和Cu-Sn二元合金薄膜平衡态和动态偏析的影响（第四章和第五章），并将修正的Darken平衡态偏析方程的应用从Fe(Au)体块材料和薄膜材料拓展至Fe(Au)合金纳米颗粒（第六章）。