由于六氟化硫（SF6）具有优良的绝缘和灭弧性能，作为高压电器设备的绝缘介质可大大提高绝缘强度，因而广泛地应用于高压电器设备内绝缘中。SF6化学性质十分稳定、不易分解，但当设备内部出现绝缘缺陷引起局部放电（PartialDischarge，PD）时，会使SF6气体发生不同程度的分解，生成如SF2、SF3、SF4等低氟化物，在没有其他杂质存在的情况下，这些低氟化物会复合还原成SF6，不会影响设备的绝缘性能。然而，由于各种原因（如SF6新气不纯、设备内部组件的释放以及密封不严等）SF6气体中不可避免地会含有微量空气和水分等杂质，将与SF6的分解物发生反应形成更多更复杂的生成物，如SOF2、SO2F2、SOF4、SO2、CF4、CO2、HF、H2S等，这些生成物有的会长期稳定存在使SF6电负性能下降，有的溶于水之后变成酸性物质，腐蚀设备内部组件，严重时会损坏设备内部的固体绝缘，从而使设备的整体绝缘性能降低，危及设备的安全运行。　　根据国内外学者的初步研究表明，O2和H2O对SF6分解组分的最终生成影响十分显著，分解组分的含量随O2和H2O含量的不同而变化，然而，目前O2和H2O对最终生成物含量变化影响的规律等还不是十分清楚。为此，需要深入研究局部放电下，O2和H2O对SF6气体分解组分影响的变化规律，为建立用SF6分解组分诊断其设备故障类型奠定理论与试验基础。　　本文利用已经研制的SF6气体PD分解试验装置，模拟气体绝缘设备中常见的固定金属突出物绝缘缺陷，在外施试验电压下产生PD使SF6气体发生分解，研究不同O2和H2O体积分数下PD引起SF6放电分解其各组分含量在不同放电时段的变化规律，对SF6分解气体进行跟踪检测，测量结果显示：PD作用下SF6的分解特征组分有SOF2、SO2F2、CF4和CO2，且不同O2和H2O含量下SF6的分解特性和产气规律存在明显差异。同时，研究还发现，CF4生成量不大，且O2和H2O对CF4都有抑制作用；O2和H2O对CO2组分含量影响不大；O2对SO2F2和SOF2的产生有促进作用，对SOF2的促进作用强于SO2F2；SO2F2和SOF2的产气量随H2O含量的增长呈现倒U型曲线，即H2O对SO2F2和SOF2的产生都有先促进后抑制的作用，且H2O对SOF2的促进和抑制作用均强于对SOF2的促进和抑制作用；由于PD属于低能放电的原因，试验中没有检测到H2S。