基于半导体光催化的可见光抗菌和自清洁固相萃取材料的研究

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二氧化钛和三氧化钨都是良好的半导体材料,但是二氧化钛的禁带宽度为3.20 eV,只能在紫外光照的条件下进行抗菌,所以需要制备出一种对可见光敏感的二氧化钛纳米复合材料。WO3的禁带宽度为2.5~3.0 eV,响应的波长范围为410~500 nm,在Xe灯照射的条件下能进行光催化反应,从而对材料或器件表面进行自清洁。纳米管状复合材料和核-壳结构的半导体复合材料都具有较大的比表面积,吸附能力强,光催化效率高,生物相容性好等特点,使其很好的应用在抗菌和蛋白质富集方面。第一部分,综述了半导体纳米材料的分类,制
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