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本论文主要是用化学共沉淀法合成纳米MgF2粉。其平均粒径为10-25nm；用高温固相法和溶胶-凝胶法合成PDP三基色荧光粉（蓝粉：BaMgAl10O17：Eu2+、红粉：(Y,Gd)BO3：Eu3+、绿粉：BaAl12O19：Mn2+），同时用溶胶-凝胶法合成荧光粉与高温固相反应合成的样品进行比较：用溶胶-凝胶法合成样品反应温度可降低300℃左右，样品的粒径降低到纳米级，颗粒分布均匀，其发射强度并没有降低：在此基础上，对PDP荧光粉进行MgF2纳米膜的表面修饰。在其表面包覆过程中对包覆的厚度、反应物的浓度、反应条件进行讨论；从结构（包括XRD、TEM、FT-IR）和发光性能（UV吸收和激发发射光谱）两大方面在包覆前和包覆后进行比较、讨论。从而证实样品的包覆效果较好。MgF2纳米膜的平均厚度为20-100nm左右，包覆后的激发和发射峰减弱，这可能是由于形成了发光中心与F-的复合色心造成的。随着焙烧温度的升高，发射强度减弱，这可能是由于猝灭引起的。同时本论文选择用水解的方法对荧光粉蓝粉进行TiO2纳米膜的表面修饰，包覆TiO2纳米膜的表面修饰后的样品的发射光谱与其包覆相同厚度的的MgF2纳米膜的发射光谱相比，发光强度和发光亮度降低的大，因此本论文选择用MgF2纳米膜进行表面修饰。 <WP=78>本论文同时采用溶胶-凝胶法合成了纳米SrAl2O4：Eu2+长余辉材料，合成温度为800℃，有长余辉现象，样品的平均粒径为20-50nm左右，样品的发射光谱及长余辉特性有待于进一步研究。