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【摘 要】
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在对半导体材料的结构缺陷进行观察时,透射电子显微镜有着其他观察仪器不可比拟的优越性,透射电子显微镜主要使用的像的技术有:质厚衬度像、衍射衬度像、位相衬度像,它们的适
【机 构】
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复旦大学
【出 处】
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复旦大学
【发表日期】
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2003年期
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