溶胶-凝胶法制备Tb3+掺杂的SiO2荧光粉性质研究

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单晶硅是现代半导体器件和大规模集成电路的基础材料。然而随着信息技术的高速发展,微电子器件在热稳定性、信号传输速度等方面出现了难以克服的缺陷。因此人们希望通过光电互联技术替代微电子技术从而突破这一困境。但是,硅是间接带隙半导体材料,发光效率极低,所以实现高效的硅基发光成为当前科研人员面临的严峻挑战。   本论文以制备高质量的硅基荧光粉为目的,以稀土离子掺杂为手段,采用溶胶-凝胶方法进行实验。最终实现了Tb3+离子在二氧化硅中的掺杂,继而通过热处理获得所需荧光粉,并对其发光性能进行测量、分析。具体来说,可以分为如下两项工作:   第一、利用溶胶-凝胶方法制备Tb3+离子掺杂Tb3+:SiO2荧光粉,并对其进行光谱分析。   第二、详细探讨荧光粉发光性能与实验参数之间的关系,包括:   ①、水与正硅酸乙脂的化学剂量比。实验结果表明,水与正硅酸乙脂的化学剂量比R0=2、4、6、8、10时,样品均可具有清晰明亮的绿光(543nm)发射。但相比较而言,当R0=4时,荧光粉发光效率最高。   ②、热处理。实验结果表明,未经热处理的干凝胶,发光极其微弱。对其进行T=300℃、400℃、450℃、500℃、600℃、700℃、800℃热处理,并测量其荧光光谱。发现:300℃热处理的样品荧光发射最强,500℃热处理的样品荧光发射最弱;在500℃之前荧光发射随退火温度的升高而降低,500℃之后荧光发射随退火温度的升高而升高;700℃、800℃光强近似。   ③、稀土离子掺杂量。实验结果表明,当稀土离子掺杂量x%=0.05%、0.l%、0.55%、5%时,发光强度随着掺杂量的加大而增强,并未出现浓度猝灭现象。
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