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随着国防与尖端科学技术的发展,高精密的光学系统得到广泛应用,使得光学元件的需求量与日俱增,精度要求越来越高。获得高质量光学表面的关键技术在于能否提供可靠的、行之有效的检测结果指导加工。在传统加工中,加工和检测是分别进行的,使得加工效率低,精度不高。因此,研究开发一种有效的在位检测技术并进行反馈加工成为解决高精度光学元件急需的关键。光学剪切干涉测量法是一种不需要标准参考波面的共光路自比较干涉测量法,具有抗干扰、防震动等特点,是实现在位测量的有效手段。但是剪切干涉的干涉图不具有直观性,需要进行复杂图像处