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实验用直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜,样品经真空退火处理后,利用X-ray衍射、能谱分析、透射电镜、电阻-温度测量等手段对晶化后的TiNi合金薄膜进行测试.
TiNi形状记忆合金薄膜的相变与位错
【摘 要】
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实验用直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜,样品经真空退火处理后,利用X-ray衍射、能谱分析、透射电镜、电阻-温度测量等手段对晶化后的TiNi合金薄膜进行测试.
【机 构】
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吉林大学
【出 处】
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吉林大学
【发表日期】
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1997年期
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