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多孔阳极氧化铝模板（Porous Anodic Aluminum Oxide Template,简称AAO模板）由于其制备工艺相对简单，孔径和孔间距的大小可以根据要求进行调节，且形成的纳米孔列阵高度有序，因此被广泛的应用在分离、纳米技术、磁性器材、光学器件等领域。近几年来，随着纳米材料研究不断深入，本实验室想要制备出屈服强度较高的纳米材料，需要孔间距小于10nm的AAO膜作为模板，因此本文针对制备微孔间距AAO模板中若干影响因素进行了系统的研究，研究内容主要包括电化学抛光、电解液、氧化电压、氧化温度以及稀土元素对AAO模板孔间距的影响。 电化学抛光与AAO模板孔间距之间的关系。在电化学抛光过程中，通过改变抛光电压和抛光时间得到不同表面粗糙度的铝基底，借助原子力显微镜(AFM)对这些铝基底表面进行表征，根据表征结果总结出电化学抛光最佳工艺为：抛光电压为15V，抛光时间为4min（抛光分两次进行，每次抛光时间为2min），抛光液的温度通过冰水混合物控制在4℃左右。之后将这些铝基底在相同阳极氧化条件下制备AAO模板，分别测量其孔间距得出最后结论为：AAO模板孔间距与铝基底表面粗糙度成线性反比的关系，即孔间距随表面粗糙度的增大而减小。 电解液、氧化电压和氧化温度与AAO模板孔间距之间的关系。电解液的研究可以分为两部分，一部分是电解液种类的研究，另一部分是电解液浓度的研究。在电解液种类研究过程中，分别选取硫酸、草酸和磷酸作为电解液，通过研究发现孔间距随着电解液酸性的增强而减小，即D硫酸
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