在电子储存环中，束流轨道的稳定是进行同步辐射应用及相关研究的前提条件。多年来国内外研究表明磁铁冷却水温度和环境温度对束流稳定性具有一定的影响。虽然HLS(Hefei Light Source)属于第二代光源，对束流轨道稳定性的要求较为宽松，但是磁铁冷却水温度和环境温度两个影响因素也不容忽视。为了对磁铁冷却水温度和环境温度进行精确监测及定量分析它们对束流轨道的影响，在HLS电子储存环上建立了一套环境温度监测系统，同时对磁铁冷却水出口温度监测系统进行改造。这两套测量系统建成后已存储了半年的历史数据，为定量分析温度对束流轨道的影响提供了条件。本论文分为七章，分述如下： 第一章简单介绍了HLS及其控制系统的基本情况，阐述了课题开展的背景以及基本设计目标。 第二章介绍了EPICS系统的构造、软硬件结构和相关的工具软件，同时也简单介绍了VxWorks操作系统的基本原理和串口的使用方法。 第三章叙述了磁铁冷却水出口温度监测系统的设计与实现的步骤。该系统基于EPICS建立，包括64路温度测量通道。 第四章详细介绍了采用Channel．Archivet对所测的水温数掘进行采样、存储和检索的方法和原理，并在已经监测的数据基础上，对磁铁冷却水温度变化对束流轨道的影响进行了估算。 第五章阐述了环境温度监测系统的设计与实现过程，包括硬件的组成和软件的开发。 第六章对环境温度监测的数据进行了详细的统计分析，得出了环境温度每变化1℃，束流位置变化10～201μm的结论。 第七章对本论文进行了总结，并且对进一步研究温度对束流轨道稳定性影响的方法进行了展望。