氮化物薄膜的制备及其结构与性能研究

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【摘要】

：

本研究采用射频反应磁控溅射法,分别在玻璃基片上制备了Tb掺杂Cu3N薄膜和TiN薄膜,采用表面形貌仪、X射线衍射仪、X射线能谱仪、四探针电阻率测试仪、紫外-可见分光光度计等设备对薄膜的成份、结构、热稳定性以及电学性能和光学性能进行了表征,并对表征结果进行了详细分析,得到以下结论：Tb的掺入对Cu3N薄膜的沉积速率没有明显的影响；Tb的掺入使Cu3N薄膜x射线衍射图谱(111)晶面衍射峰向高角度移动

【作者】

：

杨磊

【机构】

：

华中师范大学

【发表日期】

：

2011年05期

【关键词】

：

氮化铜薄膜氮化钛薄膜结构性能

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