先进集成电路制造之晶片级可靠性方法的研究

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本文从理论和应用两方面对晶圆级可靠性进行了系统的分析与研究,所讨论之晶圆级可靠性系统主要包含四个阶段: 晶圆级可靠性设计与发展,晶圆级可靠性评估及验证,晶圆级可靠性基准建立,和晶圆级可靠性控制.通过本研究中所给出的系统方法,已成功的将晶圆级可靠性技术应用于可靠性评估,甚至产品认证中;并运用于从0.35微米到0.13微米的逻辑电路及存储器的生产当中.此外,还将晶圆级可靠性用更有效的方法扩展到发展新技术、改进工艺/成品率、及优化可靠性中.
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