溅射膜厚对Fe3Si薄膜制备工艺的研究

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【摘要】

：

本文采用磁控溅射+真空退火方法制备Fe3Si薄膜,探索溅射膜厚对Fe3Si薄膜制备工艺的影响,通过改变溅射膜厚和热处理工艺参数来研究对Fe3Si的形成及晶体结构和显微结构的影响,研究形成Fe3Si薄膜的溅射膜厚。本文设计两种研究方案,第一种方案,先在硅衬底淀积一定厚度的铁膜,然后进行热处理;第二种方案,先在硅衬底上沉积硅膜,再沉积铁膜;随后在真空退火炉中对其进行热处理,采用X射线衍射(XRD)和扫

【作者】

：

高赐国

【机构】

：

贵州大学

【发表日期】

：

2016年05期

【关键词】

：

Fe3Si薄膜磁控溅射真空退火 X射线衍射(XRD) 扫描电子显微镜(SEM)

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