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石墨烯,作为一种新兴起的二维薄膜材料,以其优异的电学、力学、热力学等性质所带来的无尽的应用价值吸引了大量科学家的兴趣。然而距离其正式大规模工业应用还有较长的道路要走,因为石墨烯应用性质的优劣易受到制备质量好坏的影响。目前制备石墨烯的方法中铜基底上化学气相沉积法(chemical vapor deposition,CVD法)以其低廉成本、简单操作的优势受到广大科研工作者的青睐,有希望用于工业化量产单晶石墨烯,然而如何使用此方法制备大面积单晶石墨烯仍然是摆在科研工作者面前的挑战。本论文在论述大面积单晶石