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本研究将有意遗忘的单字范式与自我参照加工范式进行结合形成一个新范式，试图研究自我参照加工在有意遗忘现象中的独特性。自我参照加工任务的再认成绩优于他人参照加工和语义参照加工任务，学习项目呈现后560-800ms，在额区和顶区的神经活动上自我参照加工比他人参照加工诱发的波形更正向移动；记忆线索呈现后的P200成分在有意遗忘现象中具有重要的意义，记住线索条件的潜伏期小于遗忘线索条件的潜伏期；自我参照加工和他人参照加工在额区中线位置的P200成分的潜伏期上出现差异，他人参照加工在两种记忆线索下P200潜伏期的差异是显著的，但自我参照加工条件下两种记忆线索在P200潜伏期上不存在显著差异。学习项目呈现后560-800ms的平均波幅差异和记忆线索呈现后的P200成分差异，可能分别从记忆和遗忘两个角度说明了自我这一认知结构相对于他人这个表征来说是独特的。此外，本研究的行为实验中，相对于重要他人(母亲)的丰富精细化和高度组织化的认知结构，自我参照加工和母亲参照加工的有意遗忘效应之间并没有差异。