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成像椭偏测量是具有高横向分辨率的椭偏测量技术。它能实现同时对样品表面光学成像的每个像元进行椭偏测量,进而获得材料物理参数(例如,膜厚、折射率、消光系数、表面微粗糙度、合成材料中的组分比例等)及其空间分布,是一种测量速度快,且无损伤测量技术。正是这种测量的快速精确性,使得成像椭偏仪在众多领域得到应用,尤其是在薄膜测量中扮演着举足轻重的作用。有别于传统的透射式光学系统设计,本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,来实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的测量研究。特别地,光路设计采用两对离轴抛面镜