研究人员着重研究了多孔硅的形貌,多孔硅填加金属离子后的X射线衍射结构分析和多孔硅的光伏效应.以下是该文的主要工作.研究人员设计了一套器具用以制备多孔硅样品,避免了采用石蜡涂覆保护的方法.研究人员选用了电镀法制备金属/多孔硅接触结构.多孔硅表面对金属离子的吸附可能起因于多孔硅特殊的表面结构,其极大的比表面积在吸附淀积过程中可能起决定性的作用.研究人员制作了一系列多孔硅样品?采用原子力显微镜AFM观察样器形貌,摸索一些制备孔径均匀的多孔硅样品的条件.他们认为高浓度下,F<->较多,反应易进行,形成孔均匀.研究人员还发现,要得到孔径分布均匀的样品,需控制是流在一定的范围内.当多孔硅体育馆一定时间后,由于耗尽层的存在,表面形貌基本不变,而主要表现在孔深度上.衬底对多孔硅形貌也有重大影响,高阻多孔硅样品表面出现圆柱状结构.降低反应温度,可使腐蚀反应速率大大降低.采用浸溶性更好的乙醚取代乙醇参加反应,则反应大大加快.研究人员X射线衍射(XRD)的方法分析了高阻N(100)类和低阻N(111)类多孔硅样品.他们发现高阻类样品的衍射峰半高宽比单晶硅的变窄,并随反应电流的增加而减小.而低阻类的半高宽比单晶硅的要展宽.反映了它们结构的不同.他们作了高阻类和低阻类多孔硅填入金属后的XRD分析.研究人员发现高阻类样品峰形有小的变化,半高宽展宽,2θ角基本不变,即晶格常数基本不变.