光学薄膜是光学技术中主要的薄膜器件，在光学系统中占有重要的地位。随着激光技术的发展，各种深紫外激光光源相继出现。光源技术的快速发展对深紫外光学薄膜提出了迫切的要求，如何制备光学损耗小、光谱性能良好、机械性能和化学性能稳定的深紫外光学薄膜，成为了急需解决的问题。　　目前深紫外薄膜的研究重点主要是薄膜材料和沉积工艺。该波段的薄膜材料主要是铝和一些介质膜，介质材料分为氧化物和氟化物两种，本论文中研究的主要是氟化物材料LaF3和MgF2。目前应用于深紫外薄膜的沉积工艺主要是热舟蒸发技术，本论文中选择该技术制备增透膜。　　本文基于MATLAB编程实现了遗传算法在深紫外增透膜优化设计中的应用，设计出的薄膜具有良好的光谱性能。　　利用FilmWizard软件设计了193nm增透膜、宽带增透膜、宽入射角增透膜，设计中采用了不同层数的膜系结构，对各种层数增透膜的理论计算光谱性能进行了对比分析。　　利用FilmWizard软件设计了三层、五层和七层3种宽入射角范围内的深紫外增透膜，使用热舟蒸发在熔石英基片上制备薄膜，并用紫外分光光度计测试了其光谱性能，得到了在宽入射角范围内具有较高透过率的深紫外增透膜元件。双面镀五层增透膜系的熔石英基片在0°～55°入射角范围内的剩余反射率小于2.5％，在0°～20°入射角内的透过率大于98％。