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来源 :天津大学 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
该论文对SOI(Silicon on Insulator)应变SiGe沟道BiCMOS器件及应用电路进行了模拟和实验研究.SOI部分耗尽MOSFET相对于体硅MOSFET而言,具有许多优点:源漏结寄生电容小、工作速度
【作 者】
:
王静
【机 构】
:
天津大学
【出 处】
:
天津大学
【发表日期】
:
2002年期
【关键词】
:
应变SiGe合金
BiCMOS
混合模式晶体管
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