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来源 :中国科学院金属研究所 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
本文应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备TiO薄膜.探讨了O和Ar气流速、溅射时间和退火处理对薄膜结构和光催化性能的影响,对TiO薄膜的制备条件作了优化;首次利用掺杂金
【作 者】
:
张文杰
【机 构】
:
中国科学院金属研究所
【出 处】
:
中国科学院金属研究所
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
光催化剂
掺杂改性
二氧化钛
薄膜材料
磁控反应溅射法
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