氧化钒薄膜的制备及其光学性能研究

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本论文利用热氧化法和直流反应磁控溅射法制备氧化钒薄膜,主要研究热氧化温度、溅射电流、Ar/O_2流量比等实验参数对氧化钒薄膜物相组成、表面形貌、光学透过率的影响。并研究所制氧化钒薄膜在升温过程中1000nm处薄膜透过率与温度间关系,进而分析薄膜在20℃(室温)和90℃时透过率对比因子以及薄膜的热致相变温度。热氧化法中首先以溅射电流为变量制备金属V薄膜,之后将其进行不同温度(150℃、250℃、350℃、450℃)热氧化处理。通过XRD、SEM、AFM、紫外-可见分光光度计对热氧化前、后的薄膜物相组成
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