本文研究了沉积条件对薄膜的结构和光学性能的影响，薄膜的微结构与其光学性质的关系，以及如何能够更加准确计算薄膜的光学常数，提出了一种简单的利用两步法薄膜的正入射透射光谱中的极大值和极小值包络线来求解薄膜的平均折射率、消光系数和不均质的方法；该方法比传统的包络法计算的光学常数更加精确，提出了利用两步法薄膜的透射光谱极小值的变化来计算两步法薄膜中两层薄膜厚度的微小差别，研究退火温度对Nb2O5薄膜的结构和光学性质的影响，结果表明，提出了一种通过测量薄膜的表面粗糙度和透射、反射光谱特性来区分薄膜的表面和体内光学散射的研究方法，在溅射功率为1Kw的条件下，20sccm氧气流速是制备SiO2薄膜的最佳流速，薄膜具有很小光学吸收、较小的表面粗糙度和相对较高的沉积速率，在550nm波长处的折射率为1.45，在氧气流速为15sccm时，沉积速率具有极大值；而在氧气流速为10sccm左右时，薄膜的表面粗糙度有极大值；说明沉积薄膜的表面粗糙度不仅与沉积速率相关，还与薄膜的成分有关。