现代光学工程中,光学薄膜具有重要地位,可以说,没有光学薄膜,就没有当今许多复杂的、高性能的光学仪器、光电子器件以及各种光电系统,减反射薄膜又是光学薄膜中最重要的一种。本论文在对减反射薄膜设计及优化的基础上重点研究了其制备工艺。以玻璃为基底进行减反射薄膜的膜系设计,并且对SiO2、TiO2单层膜的制备工艺进行了大量的实验研究,确定了最佳工艺参数。　　 论文首先介绍了减反射薄膜的应用,并结合其发展现状对其未来发展方向进行展望。　　 目前我国光学薄膜优化设计工作还处于探索阶段,光学薄膜的设计是薄膜技术发展的一个基础环节。在减反射薄膜的设计中,作者从薄膜减反射原理和光学薄膜电磁场理论出发,利用MATLAB得出减反射膜系的设计结果及反射率特性曲线。理论透过率在可见光波长范围内可以达到99％以上,并根据优化的理论膜系进行了样品膜系的制备。根据优化结果,选用折射率为1.52的玻璃为基底,并采用磁控溅射方法制备了SiO2／TiO2膜系,并分别研究了沉积工艺参数对单层SiO2和TiO2薄膜光学性能的影响。　　 在磁控溅射工艺研究时,分别分析了工作真空度、氧气含量、退火温度等工艺参数对薄膜的光学性能及结构的影响。分析结果表明氧气含量对TiO2薄膜的折射率影响很大,制备TiO2薄膜的反应气体和工作气体O2／Ar比为1／5时,可制备出折射率符合设计要求的TiO2薄膜。另外工作真空度、退火温度也都是薄膜光学性能的重要影响因素。　　 最后,测量了单层SiO2和TiO2薄膜的折射率,用分光光度计测量了薄膜的透过率光谱曲线,薄膜的表面形貌由原子力显微镜进行分析,物相分析由X射线衍射仪进行分析。检测结果进一步验证了各工艺参数对减反射薄膜光学性能的影响。