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来源 :中国科学院研究生院 中国科学院大学 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
本论文首先制备了高质量的ZnO薄膜,然后在室温下进行40 keV N、80 keV N、400 keV Xe、1 MeV Bi离子注入实验和3.64 MeV Xe、5 MeV Bi、308 MeV Xe、2.03 GeVkr离子辐照实验,
【作 者】
:
臧航
【机 构】
:
中国科学院大学
【出 处】
:
中国科学院研究生院 中国科学院大学
【发表日期】
:
2009年期
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