利用三角形谱啁啾光纤光栅实现的边沿滤波解调系统,具有成本低,且性能不受机械元件和光源稳定性等因素影响的优点。但要得到符合要求的三角谱光栅,需要对其谱形进行控制,使其带宽,反射率以及线性度等满足场景应用需求。我们提出,现有的谱形控制技术均可以分为光栅光谱“重构”与光栅“制作”两部分。这里的“重构”指的是由目标谱形得到折射率调制量分布的过程,即理论设计;“制作”指的是根据“重构”结果实际搭建光栅刻写平台得到符合要求的啁啾光栅的过程,即实际刻写。而在光栅“制作”阶段,前人提出了一种激光束匀化后,采用三角形切趾板控制光纤不同位置处曝光光强的方法进行制作,增加了一次可曝光的光纤长度,从而提升了制作效率。然而三角形切趾板对应的线性切趾函数并非由光谱“重构”算法得到的折射率调制量分布推导得出,因此与目标光谱的真实折射率调制量分布差距较大,得到的光栅光谱有明显的波纹震荡。因此,需要借助高斯切趾板二次曝光,对其进行优化。针对该问题,本研究力图通过光栅“重构”算法得到三角形谱对应的多项式切趾函数,并进而加工对应的切趾掩模板的方法,实现啁啾光栅的谱形控制。本论文具体内容如下:（1）前人研究指出,CEO算法作为一种设计精度较高的光栅“重构”算法,能够得到目标光谱较为准确的折射率调制量分布。但在采用切趾掩模板曝光法进行“制作”时,光栅的折射率调制量分布受切趾板对应的切趾函数控制。因此本文提出,此时的光谱“重构”应进一步包含将CEO算法所得到的离散折射率调制量分布转化为连续切趾函数的过程。具体说来:从目标光谱的参数及形状出发,借助CEO算法得到离散的折射率调制量分布;其次,在折射率调制量分布平滑化后进行多项式函数拟合得到其对应的切趾函数。利用该方法得到了目标谱带宽7nm,最大反射率97%的三角谱啁啾光栅的切趾函数。最后,利用传输矩阵法进行模拟仿真,得到其设计谱参数为带宽7nm,最大反射率93.4%。除最大反射率略有下降外,光谱形状与目标谱基本保持一致,相对误差为1.17%,理论上验证了该方法可行性。（2）为了进一步的验证该切趾函数,设计和加工对应的切趾掩模板,利用该切趾掩模板控制光纤不同位置处的光强实现光栅的“制作”,最终制得的光栅带宽为7nm,最大反射率为92.7%,且具有良好的线性度,与设计结果能较好地吻合,说明该方法所得到的切趾函数能实现三角谱啁啾光栅的谱形控制。由于本研究所涉及到的切趾函数是根据严格的光谱“重构”算法所得,因此无需使用高斯切趾板进行二次曝光优化光谱,进而简化了光栅制作流程。本研究内容在推动三角谱啁啾光纤光栅的量产,进而促进边沿滤波解调系统的工程应用进度方面具有一定的现实意义。