未来直线对撞机（例如ILC和CLIC）的一项非常重要的技术挑战在于如何在对撞点聚焦几个纳米的垂直方向束团尺寸。ATF2作为ILC和CLIC类型的final focus测试束流线，其目的在于聚焦来自ATF damping ring的低发射度束流，以达到IP垂直方向束团尺寸37纳米，并且维持纳米量级的束流稳定性。　　在纳米量级束团尺寸范围内，磁铁高阶场是一个考虑的关键点。基于斜场分量敏感性的研究，对可能减弱高阶场影响的途径进行了分析，给出了增大IP水平β函数和互换QEA四极磁铁的建议，对ATF2目前为达到最终目标和未来低β函数光学模式的运行提供了可行性方法。　　IP Shintake monitor fringe旋转误差的存在将会破坏主要作用于减小IP垂直方向束团尺寸的σ34和σ32的束腰校正。对此效应产生的影响进行了解析和模拟两方面的分析，并给出了实验上通过检测对水平束腰校正影响的建议。　　Beam halo是许多大型对撞机IR区域本底的主要问题，同样也是ATF2的重要问题。通过以往EXT束流线上beam halo的测量经验公式来产生halo粒子，并在ATF2实际束流线孔径下分别在水平和垂直方向研究其传输效应。通过对post-IP束流线的改进使得康普顿电子在halo电子存在的情况下可以被探测到，同时研究不同能散下sensor处halo电子的分布，有助于实验上康普顿电子和halo电子的探测。　　通过对IP束团尺寸和色散的测量，用两种解析方法分析了twiss参数，并与EXT上OTR测量结果进行了分析对比，得出了一致性的结论。同时研究了两种解析方法的系统误差。