【摘 要】
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该文以复合材料设计思想为指导,选用具有良好软磁性能的FeSi和具有高电阻率的AlO或ZrO),采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备了不同组分的FeSi-M-O(M=Al,Zr)纳米颗粒薄膜
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该文以复合材料设计思想为指导,选用具有良好软磁性能的FeSi和具有高电阻率的Al<,2>O<,3>或ZrO<,2>),采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备了不同组分的FeSi-M-O(M=Al,Zr)纳米颗粒薄膜,并通过不同的退火处理对其结构进行改善,系统地研究了FeSi和Al<,2>O<,3>(或ZrO<,2>)的组织结构对薄膜磁性能和电阻率的影响.用EB-PVD技术,通过改变ZrO<,2>含量、基板温度、蒸发原子入射角等参数制备了不同组织结构的FeSi-Zr-O薄膜.对基板温度300℃时制备的ZrO<,2>含量为35wt﹪的FeSi-Zr-O颗粒膜进行真空退火热处理,Fe会进一步晶化,从而导致薄膜饱和磁化强度增加.同时退火也会在一定程度上消除薄膜内的残余应力,从而降低薄膜矫顽力.
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