应用ANSYS软件进行电阻抗断层成像技术分析是一种新兴的方法,国外学者对该方法进行了一些研究,但从公开资料中无法获知其具体应用方法,而国内仅有一篇文章进行过初步的讨论。本论文主要研究应用ANSYS有限元分析软件对于复杂的EIT正问题进行计算分析,研究范围涉及二维EIT正问题和三维EIT正问题,以及对结果进行图像仿真分析,评估利用ANSYS进行EIT正问题计算的可行性,以及影响计算结果的因素。简化繁琐的正问题计算步骤,为EIT技术的发展做出贡献。首先对于二维EIT正问题,我们利用有限元分析软件ANSYS对二维问题进行建模、分析、计算。并对结果进行电场仿真,分析误差和可能影响计算结果的因素。其次,对于三维EIT正问题,我们建立了模拟人体头部的四层结构头模型,并在此基础上进行三维正问题的计算与结果仿真。同时,建立三维圆柱体模型与头模型进行对比计算,综合分析计算结果。我们在研究过程中发现,应用ANSYS可以快速、准确的完成二维以及三维EIT问题的建模与计算分析,并且在建模难度、准确性以及正问题计算分析的复杂程度上要明显优于以往的程序建模方法。在二维EIT正问题的仿真分析中,我们验证了建模的准确性,得到了计算结果,以及影响二维EIT正问题计算结果的相关因素。而在三维问题的人体头部模型与三维圆柱体模型的对比计算中发现,单纯从二维的角度对EIT问题进行研究的实际意义是非常有限的,EIT问题应属于三维问题范畴。这与近期发表的论文观点相一致。影响EIT正问题计算结果的因素多种多样,复杂多变。使用ANSYS软件进行EIT问题分析是一种高效,可行的手段,为复杂的正问题计算编程提供了一种新的解决方式,有利于研究人员发现正问题计算中存在的问题,以及分析影响计算结果的因素。在精度以及计算速度方面均有良好的表现。未来通过与编程软件接口的融合,ANSYS软件将在EIT问题研究中发挥更加重要的作用。