【摘 要】
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该论文采用化学溶液沉积法(Chemical Solution Deposition简称CSD)以硝酸铋和钛酸四丁酯为金属化合物原料,以冰醋酸为溶剂成功地制备了BiTiO铁电薄膜和BiTiO介质膜.其中用化
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该论文采用化学溶液沉积法(Chemical Solution Deposition简称CSD)以硝酸铋和钛酸四丁酯为金属化合物原料,以冰醋酸为溶剂成功地制备了Bi<,4>Ti<,3>O<,12>铁电薄膜和Bi<,2>Ti<,2>O<,7>介质膜.其中用化学溶液沉积不制备Bi<,2>Ti<,2>O<,7>介质膜则是首次,未见文献报道.用该法制备Bi<,4>Ti<,3>O<,12>铁电薄膜则改进了湿法制备该膜的工艺,简化了实验操作.
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