集成电路布图设计是集成电路研制过程中的重要环节,属于无形的智力劳动成果,且具有可复制性和非任意性。专利法、版权法和商业秘密手段在集成电路布图设计的保护上都存在着各自的弊端,无法为其提供完整有效的保护。因此,有必要制定专门的法律,以保护布图设计上的知识产权。自美国颁布专门立法之后,有关国家或地区纷纷效仿,国际条约也相应产生。华盛顿条约和TRIPS协定是关于集成电路布图设计的主要国际立法。华盛顿条约由于美国、日本等发达国家的抵制至今尚未生效,但其奠定了集成电路布图设计的国际法保护基础。TRIPS协定在援引华盛顿条约部分条款的同时,在保护范围、强制许可、保护期限和善意侵权等制度上作出了相应修改和补充,更大程度地体现了发达国家的利益。根据TRIPS协定的有关规定,wTO成员负有条约义务在本国或地区保护集成电路布图设计。美国的《半导体芯片保护法》是全世界第一部集成电路布图设计领域的专门立法。由于该法中规定的对等原则,日本、欧共体和韩国相继依据《半导体芯片保护法》进行国内立法。而上述各法中的权利主体、保护对象、权利限制等条款均存在一定程度的差别。通过比较,可见欧共体和韩国的国内／区域立法基本体现了TRIPS协定规定的义务,而美国和日本则需要进行相应的修改以符合TRIPS协定的要求。作为WTO的成员,我国制定了《集成电路布图设计保护条例》,其内容与TRIPS协定基本相一致。近年来,我国集成电路布图设计的登记数量和商业利用率都在快速增长,呈现较为活跃的态势。在布图设计专有权纠纷中,可能涉及的重要问题包括明确布图设计权的起算时间及反向工程的合法性界定标准。为了完善我国的布图设计保护制度,可以从提高立法层次、合并行政执法与复审委员会、完善登记程序、完善权利救济等方面加以努力。本文旨在从国际法视野看待集成电路布图设计的知识产权保护问题。全文除引言和结论,共有四章。第一章介绍了集成电路布图设计的技术和法律特点,尤其是上述特点下不同的知识产权保护模式带来的利弊。第二章介绍了集成电路布图设计的国际条约法,包括华盛顿条约与TRIPS协定。第三章介绍了美国、日本、欧共体和韩国等各WTO成员的集成电路布图设计国内立法,并归纳总结了其各自的立法特点以及与TRIPS协定的对比分析。第四章则探讨了我国的集成电路布图设计知识产权保护模式,从立法和实践的角度进行归纳和论述。