透明导电薄膜具有高的导电性和高的可见光透明性，在薄膜太阳能电池、薄膜晶体管、平板显示器和发光二极管等领域都有重要的应用。近年来，随着有机光电器件的蓬勃发展，人们对透明导电薄膜提出了新的要求——兼具柔性。非晶氧化物材料，如铟镓锌氧（IGZO）、锌铟锡氧（ZITO）、铟锌氧（IZO）等能够较好的满足这一要求，同时保持传统透明导电薄膜的良好导电率和光透过率。然而，人们对非晶氧化物半导体材料的理论和实验研究还远远落后于传统半导体材料，为此，本文开展了非晶IZO材料的制备方法和电学输运性质的研究。主要内容如下：（1）采用PLD方法在不同的气氛（氧气、氩气）和不同的压强（0.15-4.7Pa）下生长IZO薄膜。发现在氧气下生长的IZO薄膜为非晶薄膜，载流子浓度随氧气压强的降低而升高；但是氩气下生长的IZO薄膜为多晶薄膜，载流子浓度随氩气压强的升高而升高。并且在氧气下生长的薄膜表面平滑，而在氩气下生长的薄膜随着氩气压强的增加薄膜表面的粗糙程度呈递增态势。然后我们分别从载流子浓度对迁移率和测试温度的依赖关系两个方面对非晶和多晶IZO薄膜的电子输运性质进行讨论，得到在载流子浓度ne~3.0×1018cm-3时主要的散射机制是缺陷散射，在ne=8.8×1019~2.0×1020cm-3时缺陷散射和电离杂质散射共同主导着迁移率的变化，而当ne>3.1×1020cm-3时，晶界散射严重地限制了电子的迁移率，而这些晶界散射的形成是由于缺氧的生长条件使得IZO薄膜从非晶态转变成了多晶态。所有薄膜在550nm处的透过率都大于85%，且非晶薄膜满足Burstein-Moss效应（带填充效应）的变化规律。（2）为了降低成本，并实现大面积沉积，我们尝试了采用溶胶凝胶方法制备InZnO薄膜，但是这种方法制备出的薄膜处于高阻状态（1.2×105Ω/sq左右）。为了解决这一问题，我们采用不同强度（0-160mJ/cm2）的脉冲激光对样品进行激光退火处理，并研究了激光强度对于薄膜的结晶特性、发光和电学特性的影响，得到了如下结论：未经脉冲激光处理的样品是由ZnO和In2O3的多相结构组成，这样的多相结构由于晶格失配而在带隙间引入各种缺陷（如点缺陷，线缺陷等）来捕获自由载流子，从而限制了样品电学性质的表现，增强了可见光范围的光致发光；而脉冲激光（60-120mJ/cm2）处理后的样品由于脉冲激光能量较大，容易在局部产生瞬时高温将样品中的ZnO和In2O3的多相融化分解，分解后的原子进行重新的组合分配形成稳定的合金氧化物，有效地减少了由于晶格失配所引入的带隙间的缺陷，从而明显地改善了样品的电学性能，降低了可见区的光致发光，最低面电阻达到302/sq，样品在550nm处的透过率大于70%，满足了一些应用的基本需求。而当激光强度过大（>140mJ/cm2）时，又会使样品转变为多晶结构产生晶界，从而使得样品的面电阻再次升高，在可见光区域的光致发光也就随之再次增强。