触摸屏诞生于1970年，是一项由EloTouchSystems公司首先推广到市场的技术，是一种与电脑或其他电子产品交互的最简单，最直接的方法。在触摸屏出现的多年里，由于技术方面的限制，其应用范围有很大的局限性，直到2007年美国苹果公司iphone手机的出现才改变了一切，由原来的电阻式单点触控升级到电容式的多点触控，选材上采用刚性盖板玻璃，触摸上无压力直接轻触而非点压力触摸，光透过率性能上超过了90％，大大提高了屏幕的耐久性和灵敏性，时尚优雅的精美外观等提供给用户多样化的全新使用体验。这个时期的触摸屏采用刻有图案的多层氧化铟锡(简称ITO)膜和保护膜层的投射式电容触控技术，在玻璃板上通过金属引线划分出多个相对独立的触控单元，每个触控单元通过独立的引线连接到外部电路，所有触控单元在玻璃板上呈矩阵排列。这样，当用户的手指触摸到屏幕上的某个部位时，会从相应的检测线输出信号，手指移动到另一个部位时，又会从另外的检测线输出信号。　　在电容触摸屏的制作工艺中，包括两大块：镀膜和图案刻蚀，即在玻璃基板上镀制多层膜：ITO、MoAlMo、SiO2膜层，镀膜的方法有很多，目前多采用一种非常成熟的技术-磁控溅射沉积，与低温、多靶、隔位相结合，大大的提高了触摸屏膜的性能，然后将镀完膜的半成品玻璃经过线路图形蚀刻加工后即可。　　在实际生产中，图案刻蚀工艺的设置参数简单，影响因素少，对于出现的问题总是能很容易分析解决。镀膜是电容触摸屏制作流程中比较复杂的过程，它考虑的因素很多，也是决定触摸屏质量的关键所在，直接决定着后续的工艺进行和触摸屏的最终使用性能，因此本文研究的是电容触摸屏的镀膜工艺，从镀膜工艺现阶段存在的问题入手，通过实验分析解决问题，有效的改善了触摸屏的质量和功能，保证生产的顺利进行，提高了产品的良率和产量，为公司创造更大的价值。具体内容为：　　(1)研究SiO2膜层的耐摩擦性。耐摩擦性是SiO2镀膜工艺中的一项重要性能指标，如果耐摩擦性差，在实际应用中稍稍碰一下或者擦一下就会出现脱膜现象，信号干扰能力差，可靠性不强，缩短了触摸屏的使用寿命。本文通过分析SiO2膜层耐摩擦性的影响因素，采用升温和改变充入的氮气量进行实验，找到改善SiO2膜层的耐摩擦性最佳工艺参数：充入每分钟5毫升的N2，温度240℃时透过率最高，且耐摩擦性能良好。　　(2)研究ITO膜层的打弧和消影现象。ITO打弧是镀膜工艺中一个比较顽固的问题，经过长期的实验，目前有一个比较完善的改善体系，本文实验将原来的工作电压550V降至500V，其它工艺参数设置不变，实验结果表明，降低工作电压也可以降低打弧率。ITO消影现象是近一年来的突破点，从触摸屏的技术到现在的外形改观，使触摸屏逐渐趋向于完美化，现阶段通过在玻璃上先镀制一层五氧化二铌(简称AR)薄膜来提高基板膜层的透过率，从而达到消影的目的。即分别改变SiO2和AR的膜厚寻找最佳膜厚参数，经过实验得出：当Nb2O5=80A，SiO2=500A时，透过率最高为89.86％。　　(3)研究金属发蓝现象。公司以前出现过金属发蓝现象，当时通过实验调试消除了发蓝，但是并没有从根本上解决问题，最近再次出现金属发蓝现象，因此，在前期实验的经验下，再次寻找问题根源，找到不确定因素，进而调试解决了发蓝问题。