表面光学非线性测量是研究材料表面结构特征的重要手段。目前为止，已经发展起来的测量表面三阶光学非线性的方法主要有反射Z-扫描技术和反射4f相位相干成像技术两种。但由于这两种方法的测量灵敏度均不高，使得弱表面光学非线性的测量存在困难。　　本论文提出了一种具有高灵敏度的测量材料表面三阶光学非线性的方法：反射挡板4f测量法。该方法在反射4f系统的像平面放置一个与系统入射面光阑相匹配的不透明挡板，通过测量不同情况下的反射率，实现对材料光学非线性的测量。该方法具有以下优点：光路简单、单脉冲测量、不需要移动样品、灵敏度高等。论文中我们对反射挡板4f测量法方法进行了详细的理论研究，具体的内容包括：　　通过分析反射4f系统的成像特点，提出反射挡板4f测量技术理论。比较了反射挡板4f、反射Z-扫描和反射4f相位相干成像技术的灵敏度，并详细分析了各参数对反射挡板4f系统测量灵敏度的影响。