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光敏聚酰亚胺的合成与性能表征
光敏聚酰亚胺的合成与性能表征
来源 :中国科学院长春应用化学研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:goodsky4008
【摘 要】
:
该论文综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)二十几年来的研究、发展和应用,在前人工作的基础上,改进了酯型PSPI的合成方法,并探索了其配胶和光刻工艺;合成了水系显影的PSPI光刻胶和新的
【作 者】
:
侯豪情
【机 构】
:
中国科学院长春应用化学研究所
【出 处】
:
中国科学院长春应用化学研究所
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
光敏
光刻胶
光刻
聚酰胺酯
聚酰亚胺
杂化
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该论文综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)二十几年来的研究、发展和应用,在前人工作的基础上,改进了酯型PSPI的合成方法,并探索了其配胶和光刻工艺;合成了水系显影的PSPI光刻胶和新的离子型PSPI光刻胶;最后探讨了PSPI杂化的可行性.
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